金属有机化学气相淀积技术制备GaMnN薄膜材料光学性质研究

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邢海英, 范广涵, 杨学林, 张国义. 2010: 金属有机化学气相淀积技术制备GaMnN薄膜材料光学性质研究, 物理学报, 59(1): 504-507.
引用本文: 邢海英, 范广涵, 杨学林, 张国义. 2010: 金属有机化学气相淀积技术制备GaMnN薄膜材料光学性质研究, 物理学报, 59(1): 504-507.
Xing Hai-Ying, Fan Guang-Han, Yang Xue-Lin, Zhang Guo-Yi. 2010: Optical properties of GaMnN films grown by metal-organic chemical vapor deposition, Acta Physica Sinica, 59(1): 504-507.
Citation: Xing Hai-Ying, Fan Guang-Han, Yang Xue-Lin, Zhang Guo-Yi. 2010: Optical properties of GaMnN films grown by metal-organic chemical vapor deposition, Acta Physica Sinica, 59(1): 504-507.

金属有机化学气相淀积技术制备GaMnN薄膜材料光学性质研究

Optical properties of GaMnN films grown by metal-organic chemical vapor deposition

  • 摘要: 研究由MOCVD技术制备的GaMnN外延薄膜光吸收谱.实验发现Mn掺杂后较未掺杂CaN吸收系数在近紫外区增加,在吸收谱低能区1.44 ev附近观察到吸收峰,吸收系数随Mn浓度的增加而增大.实验结果与基于密度泛函理论的第一性原理计算结果一致,结合理论计算分析认为1.44 eV附近的吸收峰源于Mn~(3+)离子e态与t_2态间的带内跃迁~5T_2→~5E.
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-01-30

金属有机化学气相淀积技术制备GaMnN薄膜材料光学性质研究

  • 天津工业大学信息与通信工程学院,天津,300160;华南师范大学光电子材料与技术研究所,广州,510631
  • 华南师范大学光电子材料与技术研究所,广州,510631
  • 北京大学宽禁带半导体研究中心,北京,100871

摘要: 研究由MOCVD技术制备的GaMnN外延薄膜光吸收谱.实验发现Mn掺杂后较未掺杂CaN吸收系数在近紫外区增加,在吸收谱低能区1.44 ev附近观察到吸收峰,吸收系数随Mn浓度的增加而增大.实验结果与基于密度泛函理论的第一性原理计算结果一致,结合理论计算分析认为1.44 eV附近的吸收峰源于Mn~(3+)离子e态与t_2态间的带内跃迁~5T_2→~5E.

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