非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响

任晓斌; 翟天瑞; 任芝; 林晶; 周静; 刘大禾

doi:10.3321/j.issn:1000-3290.2009.05.052

物理学报

非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响

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任晓斌, 翟天瑞, 任芝, 林晶, 周静, 刘大禾. 2009: 非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响, 物理学报, 58(5): 3208-3213. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.05.052

引用本文:

Ren Xiao-Bin, Zhai Tian-Rui, Ren Zhi, Lin Jing, Zhou Jing, Liu Da-He. 2009: The effect of nonlinear exposure on bandgap of three-dimensional holographic photonic crystal, Acta Physica Sinica, 58(5): 3208-3213. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.05.052

Citation:

Ren Xiao-Bin, Zhai Tian-Rui, Ren Zhi, Lin Jing, Zhou Jing, Liu Da-He. 2009: The effect of nonlinear exposure on bandgap of three-dimensional holographic photonic crystal, Acta Physica Sinica, 58(5): 3208-3213. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.05.052

非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响

应用光学北京市重点实验室,北京师范大学物理系,北京,100875

The effect of nonlinear exposure on bandgap of three-dimensional holographic photonic crystal

摘要: 从理论和实验两方面研究了非线性曝光对全息方法制作光子晶体的影响.使用低折射率材料(n=1.52)制作了金刚石结构光子晶体,通过控制曝光量使记录介质工作在非线性曝光区域,发现光子禁带的特性得到了明显的改善.并由此提出了用低折射率材料实现全空间禁带的设想.
- 光子晶体 /
- 光学全息 /
- 非线性曝光