ZnO纳米线场效应管的制备及I-V特性研究

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张威, 李梦轲, 魏强, 曹璐, 杨志, 乔双双. 2008: ZnO纳米线场效应管的制备及I-V特性研究, 物理学报, 57(9): 5887-5892. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.09.086
引用本文: 张威, 李梦轲, 魏强, 曹璐, 杨志, 乔双双. 2008: ZnO纳米线场效应管的制备及I-V特性研究, 物理学报, 57(9): 5887-5892. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.09.086
2008: Fabrication and I-V Characteristics of ZnO nanowire-based field effect transistors, Acta Physica Sinica, 57(9): 5887-5892. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.09.086
Citation: 2008: Fabrication and I-V Characteristics of ZnO nanowire-based field effect transistors, Acta Physica Sinica, 57(9): 5887-5892. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.09.086

ZnO纳米线场效应管的制备及I-V特性研究

Fabrication and I-V Characteristics of ZnO nanowire-based field effect transistors

  • 摘要: 采用静电探针和原子力探针技术,将化学气相沉积工艺制备的,长度为30-200μm,直径80-750 nm的单根半导体ZnO纳米线搭接在Au,Zn,Al不同功函的金属隔离沟道两端,构建出了最基本的ZnO纳米线绝缘栅场效应管.研究了沟道类型、纳米线直径、退火温度和外加栅压对ZnO纳米线场效应管I-V特性的影响.利用半导体与金属材料的肖特基接触、欧姆接触的产生机理及电子输运理论,对结果进行了分析和讨论.
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出版历程
  • 刊出日期:  2008-09-30

ZnO纳米线场效应管的制备及I-V特性研究

  • 辽宁师范大学物理与电子技术学院,大连,116029
  • 兰州大学化学系,兰州,730000
  • 大连理工大学物理与光电工程学院,大连,116024

摘要: 采用静电探针和原子力探针技术,将化学气相沉积工艺制备的,长度为30-200μm,直径80-750 nm的单根半导体ZnO纳米线搭接在Au,Zn,Al不同功函的金属隔离沟道两端,构建出了最基本的ZnO纳米线绝缘栅场效应管.研究了沟道类型、纳米线直径、退火温度和外加栅压对ZnO纳米线场效应管I-V特性的影响.利用半导体与金属材料的肖特基接触、欧姆接触的产生机理及电子输运理论,对结果进行了分析和讨论.

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