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Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

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倪经, 蔡建旺, 赵见高, 颜世申, 梅良模, 朱世富. 2004: Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散, 物理学报, 53(11): 3920-3923. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.11.055
引用本文: 倪经, 蔡建旺, 赵见高, 颜世申, 梅良模, 朱世富. 2004: Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散, 物理学报, 53(11): 3920-3923. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.11.055
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2004: The antiferromagnetic coupling and interface diffusion in Fe/Si multilayers, Acta Physica Sinica, 53(11): 3920-3923. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.11.055
Citation: 2004: The antiferromagnetic coupling and interface diffusion in Fe/Si multilayers, Acta Physica Sinica, 53(11): 3920-3923. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.11.055
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Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

  • 中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京,100080;四川大学材料科学与工程系,成都,610064

  • 中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京,100080

  • 山东大学物理与微电子学院,济南,250100

  • 四川大学材料科学与工程系,成都,610064

The antiferromagnetic coupling and interface diffusion in Fe/Si multilayers

  • 摘要: 对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响.实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.
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出版历程
  • 刊出日期:  2004-11-30

Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

  • 中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京,100080;四川大学材料科学与工程系,成都,610064
  • 中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京,100080
  • 山东大学物理与微电子学院,济南,250100
  • 四川大学材料科学与工程系,成都,610064

摘要: 对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响.实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.

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