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氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析

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叶超, 宁兆元, 程珊华, 王响英. 2002: 氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析, 物理学报, 51(11): 2640-2643. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.11.041
引用本文: 叶超, 宁兆元, 程珊华, 王响英. 2002: 氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析, 物理学报, 51(11): 2640-2643. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.11.041
shu
2002: Optical gap of fluorinated amorphous carbon films, Acta Physica Sinica, 51(11): 2640-2643. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.11.041
Citation: 2002: Optical gap of fluorinated amorphous carbon films, Acta Physica Sinica, 51(11): 2640-2643. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.11.041
shu

氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析

  • 苏州大学物理系,苏州,215006

  • 苏州大学基础医学系,苏州,215007

Optical gap of fluorinated amorphous carbon films

  • 摘要: 研究了CHF3/C6H6沉积的氟化非晶碳(α-C∶F)薄膜的光学带隙.发现α-C∶F薄膜光学带隙的大小取决于薄膜中C-F,CC的相对含量.这是由于CC形成的窄带隙π键和C-F形成的宽带隙σ键含量的相对变化,改变了带边态密度分布的结果.在微波功率为140-700 W、沉积气压为0.1-1.0 Pa、源气体CHF3∶C6H6流量比为1∶1-10∶1条件下沉积的α-C∶F薄膜,光学带隙在1.76-3.98 eV之间.
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出版历程
  • 刊出日期:  2002-11-30

氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析

  • 苏州大学物理系,苏州,215006
  • 苏州大学基础医学系,苏州,215007

摘要: 研究了CHF3/C6H6沉积的氟化非晶碳(α-C∶F)薄膜的光学带隙.发现α-C∶F薄膜光学带隙的大小取决于薄膜中C-F,CC的相对含量.这是由于CC形成的窄带隙π键和C-F形成的宽带隙σ键含量的相对变化,改变了带边态密度分布的结果.在微波功率为140-700 W、沉积气压为0.1-1.0 Pa、源气体CHF3∶C6H6流量比为1∶1-10∶1条件下沉积的α-C∶F薄膜,光学带隙在1.76-3.98 eV之间.

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