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非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究

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于会生, 孙霞, 罗守福, 王永瑞, 吴自勤. 2002: 非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究, 物理学报, 51(5): 999-1003. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.05.013
引用本文: 于会生, 孙霞, 罗守福, 王永瑞, 吴自勤. 2002: 非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究, 物理学报, 51(5): 999-1003. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.05.013
shu
2002: Multifractal of the deposition process of amorphous electroless Ni-Cu-Palloy, Acta Physica Sinica, 51(5): 999-1003. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.05.013
Citation: 2002: Multifractal of the deposition process of amorphous electroless Ni-Cu-Palloy, Acta Physica Sinica, 51(5): 999-1003. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.05.013
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非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究

  • 上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030

  • 中国科学技术大学基础物理中心,合肥,230026

Multifractal of the deposition process of amorphous electroless Ni-Cu-Palloy

  • 摘要: 用原子力显微镜测定了Si/TiN/Pd基体,经不同沉积时间得到的非晶Ni-13.1wt%Cu-9.3wt%P薄膜的表面形貌,得到了AFM图像的多重分形谱.结果表明:随着沉积时间的增加,多重分形谱的宽度增加,Δf(Δf=f(αmin)-f(αmax))增大.说明沉积表面高度分布随着沉积时间的增加,不均匀性显著增加,镀层在水平和垂直方向生长并逐渐形成连续致密的镀层.这与对AFM图的观察是一致的.
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出版历程

非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究

  • 上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030
  • 中国科学技术大学基础物理中心,合肥,230026

摘要: 用原子力显微镜测定了Si/TiN/Pd基体,经不同沉积时间得到的非晶Ni-13.1wt%Cu-9.3wt%P薄膜的表面形貌,得到了AFM图像的多重分形谱.结果表明:随着沉积时间的增加,多重分形谱的宽度增加,Δf(Δf=f(αmin)-f(αmax))增大.说明沉积表面高度分布随着沉积时间的增加,不均匀性显著增加,镀层在水平和垂直方向生长并逐渐形成连续致密的镀层.这与对AFM图的观察是一致的.

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