InP/SiO-2纳米复合膜的微观结构和光学性质

上一篇

下一篇

丁瑞钦, 王浩, W.F.LAU, W.Y.Cheung, S.P.WONG, 王宁娟, 于英敏. 2001: InP/SiO-2纳米复合膜的微观结构和光学性质, 物理学报, 50(8): 1574-1579. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.032
引用本文: 丁瑞钦, 王浩, W.F.LAU, W.Y.Cheung, S.P.WONG, 王宁娟, 于英敏. 2001: InP/SiO-2纳米复合膜的微观结构和光学性质, 物理学报, 50(8): 1574-1579. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.032
2001: THE MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF THE NANOCOMPOSITE FILMS OF InP/SiO2, Acta Physica Sinica, 50(8): 1574-1579. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.032
Citation: 2001: THE MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF THE NANOCOMPOSITE FILMS OF InP/SiO2, Acta Physica Sinica, 50(8): 1574-1579. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.032

InP/SiO-2纳米复合膜的微观结构和光学性质

THE MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF THE NANOCOMPOSITE FILMS OF InP/SiO2

  • 摘要: 应用射频磁控共溅射方法在石英玻璃和抛光硅片上制备了InP/SiO2复合薄膜,并在几种条件下对这些薄膜进行退火.X射线光电子能谱和卢瑟福背散射实验结果表明,复合薄膜中InP和SiO2的化学组分都大体上符合化学计量配比.X射线衍射和激光喇曼谱实验结果都证实了复合薄膜中形成了InP纳米晶粒.磷气氛保护下的高温(520℃)退火可以消除复合薄膜中残存的In和In2O3并得到了纯InP/SiO2纳米复合薄膜.实验观察到了室温下纳米复合薄膜的明显的光学吸收边蓝移现象和光学非线性的极大增强.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  517
  • HTML全文浏览数:  152
  • PDF下载数:  18
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2001-08-30

InP/SiO-2纳米复合膜的微观结构和光学性质

  • 广东省五邑大学薄膜与纳米材料研究所,
  • 香港中文大学电子工程系暨材料科技研究中心,
  • 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,

摘要: 应用射频磁控共溅射方法在石英玻璃和抛光硅片上制备了InP/SiO2复合薄膜,并在几种条件下对这些薄膜进行退火.X射线光电子能谱和卢瑟福背散射实验结果表明,复合薄膜中InP和SiO2的化学组分都大体上符合化学计量配比.X射线衍射和激光喇曼谱实验结果都证实了复合薄膜中形成了InP纳米晶粒.磷气氛保护下的高温(520℃)退火可以消除复合薄膜中残存的In和In2O3并得到了纯InP/SiO2纳米复合薄膜.实验观察到了室温下纳米复合薄膜的明显的光学吸收边蓝移现象和光学非线性的极大增强.

English Abstract

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回