PtSi超薄膜厚度的一种检测方法研究

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刘爽, 宁永功, 张毅, 张怀武, 陈艾, 刘俊刚, 杨家德, 李昆. 2001: PtSi超薄膜厚度的一种检测方法研究, 物理学报, 50(8): 1447-1450. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.009
引用本文: 刘爽, 宁永功, 张毅, 张怀武, 陈艾, 刘俊刚, 杨家德, 李昆. 2001: PtSi超薄膜厚度的一种检测方法研究, 物理学报, 50(8): 1447-1450. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.009
2001: STUDY ON A METHOD OF THE THICKNESS MEASUREMENT OF ULTRA-THIN PtSi FILM, Acta Physica Sinica, 50(8): 1447-1450. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.009
Citation: 2001: STUDY ON A METHOD OF THE THICKNESS MEASUREMENT OF ULTRA-THIN PtSi FILM, Acta Physica Sinica, 50(8): 1447-1450. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.009

PtSi超薄膜厚度的一种检测方法研究

STUDY ON A METHOD OF THE THICKNESS MEASUREMENT OF ULTRA-THIN PtSi FILM

  • 摘要: 介绍了采用角分辨X-射线光电子解谱(angle resolved X\|ray photoelectric spectrum(ARXPS))测试薄膜不同角度光电子能谱强度,计算电子平均自由程,从而计算出PtSi超薄膜厚度的方法,并给出其透射电子显微镜(TEM)晶格象验证结果.实验表明该方法简单易行,适用于其他超薄膜厚度的测量
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出版历程
  • 刊出日期:  2001-08-30

PtSi超薄膜厚度的一种检测方法研究

  • 电子科技大学信息材料工程学院,
  • 重庆光电技术研究所,
  • 材料工程研究所,

摘要: 介绍了采用角分辨X-射线光电子解谱(angle resolved X\|ray photoelectric spectrum(ARXPS))测试薄膜不同角度光电子能谱强度,计算电子平均自由程,从而计算出PtSi超薄膜厚度的方法,并给出其透射电子显微镜(TEM)晶格象验证结果.实验表明该方法简单易行,适用于其他超薄膜厚度的测量

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