磁性隧道结热稳定性的x射线光电子能谱研究

冯玉清; 赵昆; 朱涛; 詹文山

doi:10.3321/j.issn:1000-3290.2005.11.067

物理学报

磁性隧道结热稳定性的x射线光电子能谱研究

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冯玉清, 赵昆, 朱涛, 詹文山. 2005: 磁性隧道结热稳定性的x射线光电子能谱研究, 物理学报, 54(11): 5372-5376. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.11.067

引用本文:

冯玉清, 赵昆, 朱涛, 詹文山. 2005: 磁性隧道结热稳定性的x射线光电子能谱研究, 物理学报, 54(11): 5372-5376. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.11.067

Feng Yu-Qing, Zhao Kun, Zhu Tao, Zhan Wen-Shan. 2005: Thermal stability of magnetic tunnel junctions investigated by x-ray photoelectron spectroscopy, Acta Physica Sinica, 54(11): 5372-5376. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.11.067

Citation:

Feng Yu-Qing, Zhao Kun, Zhu Tao, Zhan Wen-Shan. 2005: Thermal stability of magnetic tunnel junctions investigated by x-ray photoelectron spectroscopy, Acta Physica Sinica, 54(11): 5372-5376. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.11.067

磁性隧道结热稳定性的x射线光电子能谱研究

中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京,100080
聊城大学物理与信息工程学院磁电子实验室,聊城,252059

Thermal stability of magnetic tunnel junctions investigated by x-ray photoelectron spectroscopy

摘要: 通过XPS等微观分析手段证实了磁性隧道结在高温退火后,反铁磁层中的Mn元素扩散到被钉扎铁磁层及势垒层中,破坏了势垒层/铁磁层界面,从而导致了磁性隧道结高温退火后TMR的下降.然而在反铁磁层和被钉扎铁磁层之间插入一层纳米氧化层后,Mn的扩散得到了抑制,使磁性隧道结的热稳定性得以提高.
- 磁性隧道结 /
- 纳米氧化层 /
- x射线光电子能谱