InGaN/GaN多量子阱的组分确定和晶格常数计算
Determination of chemical composition and average crystal lattice constants of InGaN/GaN multiple quantum wells
-
摘要: 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术以蓝宝石为衬底在n型GaN单晶层上生长了InGaN/GaN多量子阱结构外延薄膜,利用高分辨X射线衍射(HRXRD),卢瑟福背散射/沟道(RBS/channeling),以及光致发光(PL)技术对InGaN/GaN多量子阱结构薄膜分别进行了平均晶格常数计算、In原子替位率计算和In组分的定量分析.研究表明:InGaN/GaN多量子阱的水平和垂直方向平均晶格常数分别为aepi=0.3195 nm,cpei=0.5198 nm,In原子的替位率为99.3%,利用HRXRD和RBS/channeling两种分析技术计算In的组分分别是0.023和0.026,并与样品生长时设定的预期目标相符合,验证了两种实验方法的准确性;而用室温条件下的光致发光谱(PL)来计算InGaN/GaN多量子阱中In的组分是与HRXRD和RBS/channeling的实验结果相差很大,说明用PL测试In组分的方法是不适宜的.
-
关键词:
- InGaN/GaN多量子阱 /
- 高分辨X射线衍射 /
- 卢瑟福背散射/道 /
- 光致发光
-
-
计量
- 文章访问数: 813
- HTML全文浏览数: 51
- PDF下载数: 186
- 施引文献: 0