强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响

赵安昆; 任忠鸣; 任树洋; 操光辉; 任维丽

doi:10.3321/j.issn:1000-3290.2009.10.071

物理学报

强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响

, , , ,

赵安昆, 任忠鸣, 任树洋, 操光辉, 任维丽. 2009: 强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响, 物理学报, 58(10): 7101-7107. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.10.071

引用本文:

赵安昆, 任忠鸣, 任树洋, 操光辉, 任维丽. 2009: 强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响, 物理学报, 58(10): 7101-7107. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.10.071

Zhao An-Kun, Ren Zhong-Ming, Ren Shu-Yang, Cao Guang-Hui, Ren Wei-Li. 2009: Effect of high magnetic field on Te films prepared by vacuum evaporation, Acta Physica Sinica, 58(10): 7101-7107. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.10.071

Citation:

Zhao An-Kun, Ren Zhong-Ming, Ren Shu-Yang, Cao Guang-Hui, Ren Wei-Li. 2009: Effect of high magnetic field on Te films prepared by vacuum evaporation, Acta Physica Sinica, 58(10): 7101-7107. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.10.071

强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响

上海大学材料科学与工程学院,上海,200072

Effect of high magnetic field on Te films prepared by vacuum evaporation

摘要: 采用强磁场下物理气相沉积方法,在单晶硅、玻璃板和聚乙烯(PET)基片上真空蒸发制取Te膜.结果显示在三种不同的基片上生长Te膜时,4 T强磁场能够加快Te膜的形核长大,增大Te膜的颗粒尺度,使晶粒<011>方向取向性增强.
- 真空蒸镀 /
- 强磁场 /
- 晶面取向 /
- Te薄膜