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磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜

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潘磊, 王晓强, 张众, 朱京涛, 王占山, 李乙洲, 李宏杰, 王道荣, 赵巨岩, 陆伟. 2010: 磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜, 强激光与粒子束, 22(7): 1535-1538. doi: 10.3788/HPLPB20102207.1535
引用本文: 潘磊, 王晓强, 张众, 朱京涛, 王占山, 李乙洲, 李宏杰, 王道荣, 赵巨岩, 陆伟. 2010: 磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜, 强激光与粒子束, 22(7): 1535-1538. doi: 10.3788/HPLPB20102207.1535
shu
Pan Lei, Wang Xiaoqiang, Zhang Zhong, Zhu Jingtao, Wang Zhanshan, Li Yizhou, Li Hongjie, Wang Daorong, Zhao Juyan, Lu Wei. 2010: Fabrication of high uniformity Mo/Si multilayer with 120 mm diameter using magnetron sputtering, High Power Lase and Particle Beams, 22(7): 1535-1538. doi: 10.3788/HPLPB20102207.1535
Citation: Pan Lei, Wang Xiaoqiang, Zhang Zhong, Zhu Jingtao, Wang Zhanshan, Li Yizhou, Li Hongjie, Wang Daorong, Zhao Juyan, Lu Wei. 2010: Fabrication of high uniformity Mo/Si multilayer with 120 mm diameter using magnetron sputtering, High Power Lase and Particle Beams, 22(7): 1535-1538. doi: 10.3788/HPLPB20102207.1535
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磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜

  • 同济大学,物理系,精密光学工程技术研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海,200092

  • 中国运载火箭研究院,试验物理与计算数学实验室,北京,100076

Fabrication of high uniformity Mo/Si multilayer with 120 mm diameter using magnetron sputtering

  • 摘要: 为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜.通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性.采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%.同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%.
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-07-30

磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜

  • 同济大学,物理系,精密光学工程技术研究所,上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海,200092
  • 中国运载火箭研究院,试验物理与计算数学实验室,北京,100076

摘要: 为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜.通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性.采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%.同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%.

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