面向未来高性能电子器件的石墨烯纳米带

上一篇

下一篇

吕博赛, 娄硕, 沈沛约, 史志文. 2024: 面向未来高性能电子器件的石墨烯纳米带, 物理, 53(10): 683-690. doi: 10.7693/wl20241003
引用本文: 吕博赛, 娄硕, 沈沛约, 史志文. 2024: 面向未来高性能电子器件的石墨烯纳米带, 物理, 53(10): 683-690. doi: 10.7693/wl20241003
LYU Bo-Sai, LOU Shuo, SHEN Pei-Yue, SHI Zhi-Wen. 2024: Graphene nanoribbons for next-generation high-performance electronics, Physics, 53(10): 683-690. doi: 10.7693/wl20241003
Citation: LYU Bo-Sai, LOU Shuo, SHEN Pei-Yue, SHI Zhi-Wen. 2024: Graphene nanoribbons for next-generation high-performance electronics, Physics, 53(10): 683-690. doi: 10.7693/wl20241003

面向未来高性能电子器件的石墨烯纳米带

    通讯作者: 史志文, email:zwshi@sjtu.edu.cn
  • 基金项目:

    国家重点基础研发计划(批准号:2022YFA1402702;2021YFA1202902)、国家自然科学基金(批准号:1207040057;1237042375)资助项目

Graphene nanoribbons for next-generation high-performance electronics

    Corresponding author: SHI Zhi-Wen, email:zwshi@sjtu.edu.cn
  • 摘要: 石墨烯纳米带具有可调节的带隙和较高的载流子迁移率,是未来高性能纳米电子器件的理想候选材料之一。然而,可用于电子器件的高质量石墨烯纳米带的制备一直是一个巨大挑战。文章关注高质量石墨烯纳米带的制备,重点介绍近年来采用金属纳米颗粒催化生长纳米带方面的重要进展,尤其是运用该技术在六方氮化硼层间嵌入式生长超高质量石墨烯纳米带的最新成果。基于这种层间纳米带的场效应晶体管表现出优异的性能,有望在将来的碳基纳米电子器件中扮演重要的角色。最后讨论该领域未来可能面临的机遇与挑战。
  • 加载中
  • Geim A K. Science, 2009, 324:1530
    Schwierz F. Nat. Nanotechnol., 2010, 5:487
    Son Y W, Cohen M L, Louie S G. Phys. Rev. Lett., 2006, 97:216803
    Laird E A, Kuemmeth F, Steele G A et al. Rev. of Mod. Phys., 2015, 87:703
    Liu L J, Han J, Xu L et al. Science, 2020, 368:850
    Lou S, Lyu B, Zhou X et al. Quantum Front., 2024, 3:3
    Saraswat V, Jacobberger R M, Arnold M S et al. ACS Nano, 2021, 15:3674
    Wang H, Wang H S, Ma C et al. Nat. Rev. Phys., 2021, 3:791
    Han M Y et al. Phys. Rev. Lett., 2007, 98:206805
    Shi Z, Yang R, Zhang L et al. Adv. Mater., 2011, 23:3061
    Jiao L, Zhang L, Wang X et al. Nature, 2009, 458:877
    Kosynkin D V et al. Nature, 2009, 458:872
    Tao C, Jiao L, Yazyev O et al. Nat. Phys., 2011, 7:616
    Jiao L, Wang X, Diankov G et al. Nat. Nanotechnol., 2010, 5:321
    Chen L, He L, Wang H et al. Nat. Comm., 2017, 8:14703
    Wang H S, Chen L, Elibol K et al. Nat. Mater., 2021, 20:202
    Lyu B, Chen J, Lou S et al. Adv. Mater., 2022, 34:2200956
    Lou S, Lyu B, Chen J et al. Nano Lett., 2023, 24:156
    Fang T, Konar A, Xing H et al. Phys. Rev. B, 2008, 78:205403
    LiX, Wang X, Zhang L et al. Science, 2008, 319:1229
    Wang X et al. Phys. Rev. Lett., 2008, 100:206803
    Li H et al. ACS Appl. Mater. Interfaces, 2021, 13:52892
    Wang G et al. Appl. Phys. Lett., 2016, 109:053101
    Wang X, Ouyang Y, Jiao L et al. Nat. Nanotechnol., 2011, 6:563
    Lin M W et al. Phys. Rev. B, 2011, 84:125411
    Lu X et al. Appl. Phys. Lett., 2016, 108:113103
    Rhodes D et al. Nat. Mater., 2019, 18:541
    Wang L, Meric I, Wang P Y et al. Science, 2013, 342:614
    Lyu B, Chen J, Wang S et al. Nature, 2024, 628:758
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  226
  • HTML全文浏览数:  226
  • PDF下载数:  5
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 收稿日期:  2024-06-20

面向未来高性能电子器件的石墨烯纳米带

    通讯作者: 史志文, email:zwshi@sjtu.edu.cn
  • 1 上海交通大学物理与天文学院 人工结构及量子调控教育部重点实验室 上海 200240;
  • 2 日内瓦大学量子材料物理系 瑞士日内瓦 1211
基金项目: 

摘要: 石墨烯纳米带具有可调节的带隙和较高的载流子迁移率,是未来高性能纳米电子器件的理想候选材料之一。然而,可用于电子器件的高质量石墨烯纳米带的制备一直是一个巨大挑战。文章关注高质量石墨烯纳米带的制备,重点介绍近年来采用金属纳米颗粒催化生长纳米带方面的重要进展,尤其是运用该技术在六方氮化硼层间嵌入式生长超高质量石墨烯纳米带的最新成果。基于这种层间纳米带的场效应晶体管表现出优异的性能,有望在将来的碳基纳米电子器件中扮演重要的角色。最后讨论该领域未来可能面临的机遇与挑战。

English Abstract

参考文献 (29)

目录

/

返回文章
返回