光学元件亚表面缺陷的全内反射显微检测

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邓燕, 许乔, 柴立群, 徐建程, 石琦凯, 罗晋. 2009: 光学元件亚表面缺陷的全内反射显微检测, 强激光与粒子束, 21(6): 835-840.
引用本文: 邓燕, 许乔, 柴立群, 徐建程, 石琦凯, 罗晋. 2009: 光学元件亚表面缺陷的全内反射显微检测, 强激光与粒子束, 21(6): 835-840.
Deng Yan, Xu Qiao, Chai Liqun, Xu Jiancheng, Shi Qikai, Luo Jin. 2009: Total internal reflection microscopy:a subsurface defects identification technique in optically transparent components, High Power Lase and Particle Beams, 21(6): 835-840.
Citation: Deng Yan, Xu Qiao, Chai Liqun, Xu Jiancheng, Shi Qikai, Luo Jin. 2009: Total internal reflection microscopy:a subsurface defects identification technique in optically transparent components, High Power Lase and Particle Beams, 21(6): 835-840.

光学元件亚表面缺陷的全内反射显微检测

Total internal reflection microscopy:a subsurface defects identification technique in optically transparent components

  • 摘要: 光学元件亚表面缺陷的有效检测已成为高阊值抗激光损伤光学元件制造的迫切要求.基于全内反射照明原理开展了全内反射显微技术检测光学元件亚表面缺陷的实验研究.结果表明:全内反射显微技术可有效检测光学元件亚表面缺陷;入射光偏振态和入射角度会影响元件内界面下不同深度处驻波形式照明强度的分布,对于可见度发生明显改变的微小缺陷点能衡量出其一定的深度尺寸范围;利用显微镜精密调焦对界面下一定深度处缺陷成像,可知缺陷点的位置深度.
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出版历程
  • 刊出日期:  2009-06-30

光学元件亚表面缺陷的全内反射显微检测

  • 成都精密光学工程研究中心,成都,610041

摘要: 光学元件亚表面缺陷的有效检测已成为高阊值抗激光损伤光学元件制造的迫切要求.基于全内反射照明原理开展了全内反射显微技术检测光学元件亚表面缺陷的实验研究.结果表明:全内反射显微技术可有效检测光学元件亚表面缺陷;入射光偏振态和入射角度会影响元件内界面下不同深度处驻波形式照明强度的分布,对于可见度发生明显改变的微小缺陷点能衡量出其一定的深度尺寸范围;利用显微镜精密调焦对界面下一定深度处缺陷成像,可知缺陷点的位置深度.

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