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CH4/H2和CH4/He体系等离子体发射光谱分析

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罗利霞, 吴卫东, 朱永红, 唐永建. 2008: CH4/H2和CH4/He体系等离子体发射光谱分析, 强激光与粒子束, 20(6): 899-902.
引用本文: 罗利霞, 吴卫东, 朱永红, 唐永建. 2008: CH4/H2和CH4/He体系等离子体发射光谱分析, 强激光与粒子束, 20(6): 899-902.
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LUO Li-xia, WU Wei-dong, ZHU Yong-hong, TANG Yong-jian. 2008: Spectrum analysis of plasma in CH4/H2 and CH4/He systems, High Power Lase and Particle Beams, 20(6): 899-902.
Citation: LUO Li-xia, WU Wei-dong, ZHU Yong-hong, TANG Yong-jian. 2008: Spectrum analysis of plasma in CH4/H2 and CH4/He systems, High Power Lase and Particle Beams, 20(6): 899-902.
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CH4/H2和CH4/He体系等离子体发射光谱分析

  • 包头医学院,内蒙古,包头,014010;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳621900

  • 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳621900

Spectrum analysis of plasma in CH4/H2 and CH4/He systems

  • 摘要: 在CH4/H2和CH4/He两种系统中,利用光学发射谱技术对螺旋波放电产生低压甲烷等离子体内活性粒子的光学发射特征进行了原位诊断.在实验中,两种体系下同时都测得的主要荷电粒子为CH,Hα,Hβ,Hγ以及H2等.研究了各实验参数对这些活性粒子CH,Hα,Hβ以及Hγ的发射光谱强度的影响.结果表明:在CH4/H2体系下,随着射频功率的增大,Hα,Hβ,Hγ以及CH基团的相对强度都随着增加,而当放电气压变化时它们都呈现先增大而后减小的趋势.在CH4/He体系下,随射频功率的增加,Hα,Hβ,Hγ以及CH相对强度变化的总体趋势也都是先增加而后减小,当工作气压增加时,Hα,Hβ以及Hγ的相对强度变化也是呈现先增大而后减小,但CH基团的相对强度却是逐渐减小的;这些结果为等离子体沉积各种薄膜过程的理解及制备工艺参数的调整提供了参考.
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出版历程
  • 刊出日期:  2008-06-30

CH4/H2和CH4/He体系等离子体发射光谱分析

  • 包头医学院,内蒙古,包头,014010;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳621900
  • 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳621900

摘要: 在CH4/H2和CH4/He两种系统中,利用光学发射谱技术对螺旋波放电产生低压甲烷等离子体内活性粒子的光学发射特征进行了原位诊断.在实验中,两种体系下同时都测得的主要荷电粒子为CH,Hα,Hβ,Hγ以及H2等.研究了各实验参数对这些活性粒子CH,Hα,Hβ以及Hγ的发射光谱强度的影响.结果表明:在CH4/H2体系下,随着射频功率的增大,Hα,Hβ,Hγ以及CH基团的相对强度都随着增加,而当放电气压变化时它们都呈现先增大而后减小的趋势.在CH4/He体系下,随射频功率的增加,Hα,Hβ,Hγ以及CH相对强度变化的总体趋势也都是先增加而后减小,当工作气压增加时,Hα,Hβ以及Hγ的相对强度变化也是呈现先增大而后减小,但CH基团的相对强度却是逐渐减小的;这些结果为等离子体沉积各种薄膜过程的理解及制备工艺参数的调整提供了参考.

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