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极紫外多层膜残余应力初步研究

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向鹏, 金春水, 张立超, 金伟华, 刘颖敏, 曹健林. 2005: 极紫外多层膜残余应力初步研究, 强激光与粒子束, 17(3): 377-380.
引用本文: 向鹏, 金春水, 张立超, 金伟华, 刘颖敏, 曹健林. 2005: 极紫外多层膜残余应力初步研究, 强激光与粒子束, 17(3): 377-380.
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XIANG Peng, JIN Chun-shui, ZHANG Li-chao, JIN Wei-hua, LIU Ying-min, CAO Jian-lin. 2005: Control of residual stress in extreme ultraviolet multilayer coatings, High Power Lase and Particle Beams, 17(3): 377-380.
Citation: XIANG Peng, JIN Chun-shui, ZHANG Li-chao, JIN Wei-hua, LIU Ying-min, CAO Jian-lin. 2005: Control of residual stress in extreme ultraviolet multilayer coatings, High Power Lase and Particle Beams, 17(3): 377-380.
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极紫外多层膜残余应力初步研究

  • 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130033

Control of residual stress in extreme ultraviolet multilayer coatings

  • 摘要: 针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因.实验结果表明:Mo单层膜表现为张应力, Si单层膜表现为压应力;通过传统方法制备的13.0 nm处高反射率的40对Mo/Si多层膜会产生-500 MPa左右的压应力,其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的;通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力,但是以牺牲多层膜反射率为代价.
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-03-30

极紫外多层膜残余应力初步研究

  • 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130033

摘要: 针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因.实验结果表明:Mo单层膜表现为张应力, Si单层膜表现为压应力;通过传统方法制备的13.0 nm处高反射率的40对Mo/Si多层膜会产生-500 MPa左右的压应力,其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的;通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力,但是以牺牲多层膜反射率为代价.

English Abstract

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