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应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值

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张东平, 张大伟, 范树海, 黄建兵, 赵元安, 邵建达, 范正修. 2005: 应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值, 强激光与粒子束, 17(2): 213-216.
引用本文: 张东平, 张大伟, 范树海, 黄建兵, 赵元安, 邵建达, 范正修. 2005: 应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值, 强激光与粒子束, 17(2): 213-216.
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ZHANG Dong-ping, ZHANG Da-wei, FAN Shu-hai, HUANG Jian-bing, ZHAO Yuan-an, SHAO Jian-da, FAN Zheng-xiu. 2005: Using ion post-treatment technique to improve laser-induced damage threshold of thin films, High Power Lase and Particle Beams, 17(2): 213-216.
Citation: ZHANG Dong-ping, ZHANG Da-wei, FAN Shu-hai, HUANG Jian-bing, ZHAO Yuan-an, SHAO Jian-da, FAN Zheng-xiu. 2005: Using ion post-treatment technique to improve laser-induced damage threshold of thin films, High Power Lase and Particle Beams, 17(2): 213-216.
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应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院,研究生院,北京,100039

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800

Using ion post-treatment technique to improve laser-induced damage threshold of thin films

  • 摘要: 利用电子束热蒸发方法在K9玻璃基底上沉积氧化锆薄膜,并对其中一些样品用低能O2+进行了后处理.采用表面热透镜技术测量薄膜样品表面弱吸收,采用显微镜观察样品离子后处理前后的显微缺陷密度.测试结果表明:经离子后处理样品表面的缺陷密度从18.6/mm2降低到6.2/mm2,且其激光损伤阈值从15.9 J/cm2提高到23.1 J/cm2,样品的平均吸收率从处理前的1.147×10-4降低到处理后的9.56×10-5.通过对处理前后样品的表面微缺陷密度、吸收率及损伤形貌等的分析发现:离子后处理可以降低薄膜的显微缺陷和亚显微缺陷,从而降低薄膜的平均吸收率,同时增强了薄膜与基底的结合力,提高了薄膜的激光损伤阈值.
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-02-28

应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院,研究生院,北京,100039
  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800

摘要: 利用电子束热蒸发方法在K9玻璃基底上沉积氧化锆薄膜,并对其中一些样品用低能O2+进行了后处理.采用表面热透镜技术测量薄膜样品表面弱吸收,采用显微镜观察样品离子后处理前后的显微缺陷密度.测试结果表明:经离子后处理样品表面的缺陷密度从18.6/mm2降低到6.2/mm2,且其激光损伤阈值从15.9 J/cm2提高到23.1 J/cm2,样品的平均吸收率从处理前的1.147×10-4降低到处理后的9.56×10-5.通过对处理前后样品的表面微缺陷密度、吸收率及损伤形貌等的分析发现:离子后处理可以降低薄膜的显微缺陷和亚显微缺陷,从而降低薄膜的平均吸收率,同时增强了薄膜与基底的结合力,提高了薄膜的激光损伤阈值.

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