高级搜索

二氧化锆薄膜制备及其特性测量

,  ,  , 

downloadPDF

上一篇

下一篇

任树喜, 马洪良, 徐国庆, 张义炳. 2005: 二氧化锆薄膜制备及其特性测量, 强激光与粒子束, 17(2): 222-224.
引用本文: 任树喜, 马洪良, 徐国庆, 张义炳. 2005: 二氧化锆薄膜制备及其特性测量, 强激光与粒子束, 17(2): 222-224.
shu
REN Shu-xi, MA Hong-liang, Xu Guo-qing, ZHANG Yi-bing. 2005: Preparation and character measurement of ZrO2 films, High Power Lase and Particle Beams, 17(2): 222-224.
Citation: REN Shu-xi, MA Hong-liang, Xu Guo-qing, ZHANG Yi-bing. 2005: Preparation and character measurement of ZrO2 films, High Power Lase and Particle Beams, 17(2): 222-224.
shu

二氧化锆薄膜制备及其特性测量

  • 上海大学,物理系,上海,200436

Preparation and character measurement of ZrO2 films

  • 摘要: 在室温下采用电子束蒸发的办法制备二氧化锆(ZrO2)薄膜.借助紫外分光光度计、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)等方法研究了薄膜的透射率和表面结构.同时研究了不同退火温度对薄膜物理性质的影响.在退火温度700,900,1 050℃时显微镜图像没有明显差别.随着退火温度的变大,薄膜表面的晶粒的直径逐渐变大,但粒径均在25 nm左右.当退火温度达到1 150℃时,粒径变得很大(约400 nm).在700,900,1 050℃下退火后的薄膜的X射线衍射谱没有明显差别.在退火温度1 150℃下出现了较高的峰,研究结果表明:退火温度的增加,大量大粒径二氧化锆单晶晶粒出现,使得二氧化锆薄膜的漏电流增大,从而导致其热稳定性变差.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  438
  • HTML全文浏览数:  23
  • PDF下载数:  124
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2005-02-28

二氧化锆薄膜制备及其特性测量

  • 上海大学,物理系,上海,200436

摘要: 在室温下采用电子束蒸发的办法制备二氧化锆(ZrO2)薄膜.借助紫外分光光度计、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)等方法研究了薄膜的透射率和表面结构.同时研究了不同退火温度对薄膜物理性质的影响.在退火温度700,900,1 050℃时显微镜图像没有明显差别.随着退火温度的变大,薄膜表面的晶粒的直径逐渐变大,但粒径均在25 nm左右.当退火温度达到1 150℃时,粒径变得很大(约400 nm).在700,900,1 050℃下退火后的薄膜的X射线衍射谱没有明显差别.在退火温度1 150℃下出现了较高的峰,研究结果表明:退火温度的增加,大量大粒径二氧化锆单晶晶粒出现,使得二氧化锆薄膜的漏电流增大,从而导致其热稳定性变差.

English Abstract

    全文HTML

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回