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神光-Ⅱ装置三倍频实验中靶场单元技术的改进

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赵东峰, 戴亚平, 黄关龙, 邵平, 华能, 尹宪华. 2004: 神光-Ⅱ装置三倍频实验中靶场单元技术的改进, 强激光与粒子束, 16(4): 441-444.
引用本文: 赵东峰, 戴亚平, 黄关龙, 邵平, 华能, 尹宪华. 2004: 神光-Ⅱ装置三倍频实验中靶场单元技术的改进, 强激光与粒子束, 16(4): 441-444.
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2004: Improvement of target area for 3ω shot experiments in SG-Ⅱ Facility, High Power Lase and Particle Beams, 16(4): 441-444.
Citation: 2004: Improvement of target area for 3ω shot experiments in SG-Ⅱ Facility, High Power Lase and Particle Beams, 16(4): 441-444.
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神光-Ⅱ装置三倍频实验中靶场单元技术的改进

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,高功率激光物理国家实验室,上海,201800

Improvement of target area for 3ω shot experiments in SG-Ⅱ Facility

  • 摘要: 主要介绍为了满足神光-Ⅱ高功率激光装置三倍频光(351nm,3ω)的物理实验要求,靶场三倍频模拟光源和瞄准监视系统两个主要单元技术的改进,即三倍频模拟光源由基频光(1 053nm,3ω)通过腔外的KTP+BBO晶体倍频获得,再经八路分光系统和主激光耦合;瞄准监视系统由透射式光学系统改进为反射式光学系统,避免原系统存在较大的色差,提高瞄准精度.
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出版历程
  • 刊出日期:  2004-04-30

神光-Ⅱ装置三倍频实验中靶场单元技术的改进

  • 中国科学院,上海光学精密机械研究所,高功率激光物理国家实验室,上海,201800

摘要: 主要介绍为了满足神光-Ⅱ高功率激光装置三倍频光(351nm,3ω)的物理实验要求,靶场三倍频模拟光源和瞄准监视系统两个主要单元技术的改进,即三倍频模拟光源由基频光(1 053nm,3ω)通过腔外的KTP+BBO晶体倍频获得,再经八路分光系统和主激光耦合;瞄准监视系统由透射式光学系统改进为反射式光学系统,避免原系统存在较大的色差,提高瞄准精度.

English Abstract

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