拓扑绝缘体(Bi0.5Sb0.5)2Te3薄膜中的线性磁阻

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关童, 滕静, 吴克辉, 李永庆. 2015: 拓扑绝缘体(Bi0.5Sb0.5)2Te3薄膜中的线性磁阻, 物理学报, null(7): 077201. doi: 10.7498/aps.64.077201
引用本文: 关童, 滕静, 吴克辉, 李永庆. 2015: 拓扑绝缘体(Bi0.5Sb0.5)2Te3薄膜中的线性磁阻, 物理学报, null(7): 077201. doi: 10.7498/aps.64.077201
Guan Tong, Teng Jing, Wu Ke-Hui, Li Yong-Qing. 2015: Linear magnetoresistance in topological insulator (Bi0.5Sb0.5)2Te3 thin films, Acta Physica Sinica, null(7): 077201. doi: 10.7498/aps.64.077201
Citation: Guan Tong, Teng Jing, Wu Ke-Hui, Li Yong-Qing. 2015: Linear magnetoresistance in topological insulator (Bi0.5Sb0.5)2Te3 thin films, Acta Physica Sinica, null(7): 077201. doi: 10.7498/aps.64.077201

拓扑绝缘体(Bi0.5Sb0.5)2Te3薄膜中的线性磁阻

Linear magnetoresistance in topological insulator (Bi0.5Sb0.5)2Te3 thin films

  • 摘要: 本文报道了拓扑绝缘体(Bi0.5Sb0.5)2Te3薄膜中线性磁阻问题的系统性研究工作.此体系中,线性磁阻在很宽的温度和磁场范围内出现:磁场高达18 T时磁阻仍没有饱和趋势,并且当温度不高于50 K时,线性磁阻的大小对温度的变化不敏感.栅压调控化学势可明显改变线性磁阻的大小.当化学势接近狄拉克点时,线性磁阻最为显著.这些结果说明电荷分布的不均匀性是引起该材料线性磁阻的根源.
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出版历程
  • 刊出日期:  2015-04-15

拓扑绝缘体(Bi0.5Sb0.5)2Te3薄膜中的线性磁阻

  • 中国科学院物理研究所,北京凝聚态物理国家实验室,北京 100190

摘要: 本文报道了拓扑绝缘体(Bi0.5Sb0.5)2Te3薄膜中线性磁阻问题的系统性研究工作.此体系中,线性磁阻在很宽的温度和磁场范围内出现:磁场高达18 T时磁阻仍没有饱和趋势,并且当温度不高于50 K时,线性磁阻的大小对温度的变化不敏感.栅压调控化学势可明显改变线性磁阻的大小.当化学势接近狄拉克点时,线性磁阻最为显著.这些结果说明电荷分布的不均匀性是引起该材料线性磁阻的根源.

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