低温生长Cu(InGa)Se2薄膜吸收层的掺钠工艺研究

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何静婧, 刘玮, 李志国, 李博研, 韩安军, 李光旻, 张超, 张毅, 孙云. 2012: 低温生长Cu(InGa)Se2薄膜吸收层的掺钠工艺研究, 物理学报, 61(19): 519-525.
引用本文: 何静婧, 刘玮, 李志国, 李博研, 韩安军, 李光旻, 张超, 张毅, 孙云. 2012: 低温生长Cu(InGa)Se2薄膜吸收层的掺钠工艺研究, 物理学报, 61(19): 519-525.
2012: Research on sodium incorporation methods of growing Cu(In-Ga)Se2 thin film by low-temperature deposition, Acta Physica Sinica, 61(19): 519-525.
Citation: 2012: Research on sodium incorporation methods of growing Cu(In-Ga)Se2 thin film by low-temperature deposition, Acta Physica Sinica, 61(19): 519-525.

低温生长Cu(InGa)Se2薄膜吸收层的掺钠工艺研究

Research on sodium incorporation methods of growing Cu(In-Ga)Se2 thin film by low-temperature deposition

  • 摘要: 在柔性聚酰亚胺衬底上低温制备Cu(In,Ga)Se2薄膜太阳能电池,Na的掺入会改善电池特性,但不同的掺Na工艺对Cu(In,Ga)Se2薄膜和器件特性的改善机理不同.本实验通过对比前掺NaF和后掺NaF工艺发现,在前掺Na工艺下,由于Na始终存在于Cu(In,Ga)Se2薄膜生长过程中,Na存在于多晶Cu(In,Ga)Se2薄膜晶界处,起到了扩散势垒的作用,导致晶粒细碎、加剧两相分离,同时减小了施主缺陷的形成概率;而在后掺Na工艺下,掺入的Na对薄膜的结构及生长不产生影响,仅仅起到了钝化施主缺陷、改善薄膜缺陷态的作用.同时,研究表明,后掺Na工艺中,NaF必须依靠外界能量辅助才能扩散进Cu(In,Ga)Se2内部,实验结果证实,只有衬底温度达到350℃以上时,掺入的NaF才能较好地改善薄膜特性.最终经掺Na工艺的优化,得到低温工艺制备的柔性聚酰亚胺衬底器件效率达10.4%.
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出版历程
  • 刊出日期:  2012-10-15

低温生长Cu(InGa)Se2薄膜吸收层的掺钠工艺研究

  • 天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,南开大学信息技术科学学院,天津300071

摘要: 在柔性聚酰亚胺衬底上低温制备Cu(In,Ga)Se2薄膜太阳能电池,Na的掺入会改善电池特性,但不同的掺Na工艺对Cu(In,Ga)Se2薄膜和器件特性的改善机理不同.本实验通过对比前掺NaF和后掺NaF工艺发现,在前掺Na工艺下,由于Na始终存在于Cu(In,Ga)Se2薄膜生长过程中,Na存在于多晶Cu(In,Ga)Se2薄膜晶界处,起到了扩散势垒的作用,导致晶粒细碎、加剧两相分离,同时减小了施主缺陷的形成概率;而在后掺Na工艺下,掺入的Na对薄膜的结构及生长不产生影响,仅仅起到了钝化施主缺陷、改善薄膜缺陷态的作用.同时,研究表明,后掺Na工艺中,NaF必须依靠外界能量辅助才能扩散进Cu(In,Ga)Se2内部,实验结果证实,只有衬底温度达到350℃以上时,掺入的NaF才能较好地改善薄膜特性.最终经掺Na工艺的优化,得到低温工艺制备的柔性聚酰亚胺衬底器件效率达10.4%.

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