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反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响

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张增院, 郜小勇, 冯红亮, 马姣民, 卢景霄. 2011: 反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响, 物理学报, 60(1): 484-489.
引用本文: 张增院, 郜小勇, 冯红亮, 马姣民, 卢景霄. 2011: 反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响, 物理学报, 60(1): 484-489.
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Zhang Zeng-Yuan, Gao Xiao-Yong, Feng Hong-Liang, Ma Jiao-Min, Lu Jing-Xiao. 2011: Effect of the reactive pressure on the structure and optical properties of silver oxide films deposited by direct-current reactive magnetron sputtering, Acta Physica Sinica, 60(1): 484-489.
Citation: Zhang Zeng-Yuan, Gao Xiao-Yong, Feng Hong-Liang, Ma Jiao-Min, Lu Jing-Xiao. 2011: Effect of the reactive pressure on the structure and optical properties of silver oxide films deposited by direct-current reactive magnetron sputtering, Acta Physica Sinica, 60(1): 484-489.
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反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响

  • 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州,450052

Effect of the reactive pressure on the structure and optical properties of silver oxide films deposited by direct-current reactive magnetron sputtering

  • 摘要: 利用直流磁控反应溅射技术,通过调节反应气压(RP),在250℃衬底温度下制备了一系列氧化银(AgxO)薄膜,并利用X射线衍射谱、能量色散谱和分光光度计重点研究了RP对AgxO薄膜的结构和光学性质的影响.研究结果表明,随着RP从0.5 Pa升高到3.5 Pa,薄膜明显呈现了从两相(AgO+Ag2O)到单相(Ag2O)结构再到两相(Ag2O+AgO)结构的演变.特别是在RP=2.5 Pa时成功制备了单相Ag2O薄膜,使AgxO薄膜的热分解临界温度的有效降低成为现实.AgxO薄膜透明区的透射率随RP的增加而增加,而反射率和吸收率随RP的增加而减小.该结果可归结于薄膜相结构的演变和薄膜厚度的减小.两相(AgO+Ag2O)薄膜的吸收边在2.75 eV附近,而单相(Ag2O)和Ag2O相占主导的两相(Ag2O+AgO)薄膜的吸收边在2.5 eV附近.
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出版历程
  • 刊出日期:  2011-01-30

反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响

  • 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州,450052

摘要: 利用直流磁控反应溅射技术,通过调节反应气压(RP),在250℃衬底温度下制备了一系列氧化银(AgxO)薄膜,并利用X射线衍射谱、能量色散谱和分光光度计重点研究了RP对AgxO薄膜的结构和光学性质的影响.研究结果表明,随着RP从0.5 Pa升高到3.5 Pa,薄膜明显呈现了从两相(AgO+Ag2O)到单相(Ag2O)结构再到两相(Ag2O+AgO)结构的演变.特别是在RP=2.5 Pa时成功制备了单相Ag2O薄膜,使AgxO薄膜的热分解临界温度的有效降低成为现实.AgxO薄膜透明区的透射率随RP的增加而增加,而反射率和吸收率随RP的增加而减小.该结果可归结于薄膜相结构的演变和薄膜厚度的减小.两相(AgO+Ag2O)薄膜的吸收边在2.75 eV附近,而单相(Ag2O)和Ag2O相占主导的两相(Ag2O+AgO)薄膜的吸收边在2.5 eV附近.

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