高压LDMOS晶体管准饱和效应分析与建模

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王磊, 杨华岳. 2010: 高压LDMOS晶体管准饱和效应分析与建模, 物理学报, 59(1): 571-578.
引用本文: 王磊, 杨华岳. 2010: 高压LDMOS晶体管准饱和效应分析与建模, 物理学报, 59(1): 571-578.
Wang Lei, Steve Yang. 2010: Analysis and modeling of quasi-saturation effect in high-voltage LDMOS transistors, Acta Physica Sinica, 59(1): 571-578.
Citation: Wang Lei, Steve Yang. 2010: Analysis and modeling of quasi-saturation effect in high-voltage LDMOS transistors, Acta Physica Sinica, 59(1): 571-578.

高压LDMOS晶体管准饱和效应分析与建模

Analysis and modeling of quasi-saturation effect in high-voltage LDMOS transistors

  • 摘要: 研究了高压LDMOS(lateral double-diffused MOS)晶体管中一种特殊的电流饱和现象——准饱和效应.借助于TCAD模拟工具,澄清了准饱和效应的物理机理是漂移区载流子的速度饱和.进而从本征漏极电压V_k入手,给出了描述LDMOS管电流饱和特性的数学模型.该模型已经通过了Matlab的编程验证,兼具准确性、计算速度和可扩展性等优点,并可进一步应用于SPICE电路模拟.
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出版历程
  • 刊出日期:  2010-01-30

高压LDMOS晶体管准饱和效应分析与建模

  • 中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海,200050;中国科学院研究生院,北京,100049;上海宏力半导体制造有限公司,上海,201203
  • 上海宏力半导体制造有限公司,上海,201203

摘要: 研究了高压LDMOS(lateral double-diffused MOS)晶体管中一种特殊的电流饱和现象——准饱和效应.借助于TCAD模拟工具,澄清了准饱和效应的物理机理是漂移区载流子的速度饱和.进而从本征漏极电压V_k入手,给出了描述LDMOS管电流饱和特性的数学模型.该模型已经通过了Matlab的编程验证,兼具准确性、计算速度和可扩展性等优点,并可进一步应用于SPICE电路模拟.

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