X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类金刚石碳膜的结构细节

上一篇

下一篇

李刘合, 张海泉, 崔旭明, 张彦华, 夏立芳, 马欣新, 孙跃. 2001: X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类金刚石碳膜的结构细节, 物理学报, 50(8): 1549-1553. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.028
引用本文: 李刘合, 张海泉, 崔旭明, 张彦华, 夏立芳, 马欣新, 孙跃. 2001: X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类金刚石碳膜的结构细节, 物理学报, 50(8): 1549-1553. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.028
2001: COMPARATIVE ANALYSIS OF DLC FLIM FINE STRUCTURE BY RAMAN SPECTRA AND X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY, Acta Physica Sinica, 50(8): 1549-1553. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.028
Citation: 2001: COMPARATIVE ANALYSIS OF DLC FLIM FINE STRUCTURE BY RAMAN SPECTRA AND X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY, Acta Physica Sinica, 50(8): 1549-1553. doi: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.028

X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类金刚石碳膜的结构细节

COMPARATIVE ANALYSIS OF DLC FLIM FINE STRUCTURE BY RAMAN SPECTRA AND X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY

  • 摘要: 分别采用具有和不具有弯曲弧磁过滤器的两种真空阴极弧离子镀方法,在不同工艺参量下制备了类金刚石碳膜.采用Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS), 分析了不同工艺参量下的类金刚石碳膜的键结构,通过对Raman光谱的D峰、G峰和C1s电子结合能峰位、强度的对比,详细讨论了沉积工艺参量对类金刚石碳膜结构的影响.研究发现,不同工艺下具有高强度D峰Raman光谱的类金刚石碳膜,其C1s电子结合能却分别位于284.15,285.50 eV,表明高度石墨化和高度金刚石化两种状态类金刚石碳膜,都可以形成具有高强度D峰Raman光谱曲线.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  696
  • HTML全文浏览数:  51
  • PDF下载数:  129
  • 施引文献:  0
出版历程
  • 刊出日期:  2001-08-30

X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类金刚石碳膜的结构细节

  • 北京航空航天大学机械学院,
  • 哈尔滨工业大学材料学院,

摘要: 分别采用具有和不具有弯曲弧磁过滤器的两种真空阴极弧离子镀方法,在不同工艺参量下制备了类金刚石碳膜.采用Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS), 分析了不同工艺参量下的类金刚石碳膜的键结构,通过对Raman光谱的D峰、G峰和C1s电子结合能峰位、强度的对比,详细讨论了沉积工艺参量对类金刚石碳膜结构的影响.研究发现,不同工艺下具有高强度D峰Raman光谱的类金刚石碳膜,其C1s电子结合能却分别位于284.15,285.50 eV,表明高度石墨化和高度金刚石化两种状态类金刚石碳膜,都可以形成具有高强度D峰Raman光谱曲线.

English Abstract

参考文献 (0)

目录

/

返回文章
返回