低温等离子体技术应用研究进展

孟月东; 钟少锋; 熊新阳

doi:10.3321/j.issn:0379-4148.2006.02.009

物理

低温等离子体技术应用研究进展

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孟月东, 钟少锋, 熊新阳. 2006: 低温等离子体技术应用研究进展, 物理, 35(2): 140-146. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2006.02.009

引用本文:

孟月东, 钟少锋, 熊新阳. 2006: 低温等离子体技术应用研究进展, 物理, 35(2): 140-146. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2006.02.009

MENG Yue-Dong, ZHONG Shao-Feng, XIONG Xin-Yang. 2006: Advances in applied low-temperature plasma technology, Physics, 35(2): 140-146. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2006.02.009

Citation:

MENG Yue-Dong, ZHONG Shao-Feng, XIONG Xin-Yang. 2006: Advances in applied low-temperature plasma technology, Physics, 35(2): 140-146. doi: 10.3321/j.issn:0379-4148.2006.02.009

低温等离子体技术应用研究进展

中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031
新疆天业集团,石河子,832000

Advances in applied low-temperature plasma technology

摘要: 介绍了低温等离子体发生技术及原理,对近几年低温等离子体技术应用研究的一个新生的领域-高分子等离子体化学的研究进展进行了概述,内容涉及等离子体聚合、合成、接枝、纳米粒子/粉体包覆、等离子体增强沉积生物适合层及低温等离子体灭菌技术.
- 等离子体 /
- 接枝 /
- 聚合与合成 /
- 灭菌